关于反渗透技术在大型电子超纯水项目中的应用介绍

超纯水（ Ultrapure water ）又称 UP 水，是指电阻率达到 18 M Ω *cm （ 25 ℃）的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。可以用于超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程

超纯水处理 : 既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于 18M Ω *cm ，或接近 18.3M Ω *cm 极限值 (25 ℃ ) 。

超纯水处理，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除 TOC 装置等多种处理方法，电阻率方可达 18.25M Ω *cm(25 ℃ ) 。

在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉 的超纯水系统更是高之又高。半导体行业超纯水制造工艺可以概述为 4 个部分，分别为预处理部分、 RO 部分、电去离子部分和抛光混床部分；在有些半导体厂中， 也有用“阴床 + 阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定。

产品优势

1. 避免传统离子再生耗费的大量酸碱，对环境更友好；

2. 克服传统离子设备再生周期相对较长；

3. 超滤反洗排水、一级 RO 浓水排水和 CEDI 浓水排水及其回收利用措施，利于节能减排；

4. 节约水资源及半导体制造单位的运行成本。

产品应用

预处理部分

1. 多介质过滤器 + 活性炭过滤器 ;

2 . 粗过滤器 + 超滤装置。

反渗透部分

反渗透膜

电去离子部分

EDI 模块和 CEDI 模块。

抛光混床

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