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关于半导体工厂废水氨氮处理的运行控制和工艺优化介绍
2020/7/15
摘 要 介绍生化法对半导体工厂废水 中的氨氮进行处理的系统，主要对运行控制进行重点探讨 ，且对工艺 优 化提 出初 步设 想 。关于半导体工业废水污染特征因子初探介绍
2020/7/15
摘 要 ：指 出 了集 成 电路 和 印制 电路 板 是 半 导 体 工 业 的 主 要 组 成 部 分 ，而 在 生 产 过 程 中 会 大量 使 用 氢 氟 酸 ， 使 得 虽 经过 处理 后 的 生 产废 水 中 氟 离子 浓 度仍 较 高 ，达 到 7mg／I 左 右 ；通 过 将 半 导 体 企 业 排 放 废 水 与 生 活污水、地下水及地表水 中氟 离子浓度进行 比较 ，提 出了以氟 离子 浓度作 为半 导体工业废 水的 污染特征 因 子 ，并 结 合 不 同雨 污 混 接 类 型 污染 特 征 因子 ，依 据 物 料 和 水 量 守 恒得 出不 同 混接 类 型 的 近 似 混 接 水 量 比 例 计 算 公 式 ，以期 为 后 续 的 雨污 混 接 溯 源 和 雨 污 改造 工程 提 供 借 鉴 。关于半导体工业废水中除砷的研究介绍
2020/7/15
摘要 : 砷、镓、铟等有毒重金属元素作为半导体工业的主要原料 ,在加工使用过程中部分 被当作废弃物而排放到工业废水中 ,如果这些废水不经处理就直接排放到环境当中去就 会污染自然环境 ,给动植物以及人类造成危害。利用氢氧化钙和硫酸铁作为混凝剂对原 始废水进行混凝沉淀 ,用膨润土、活性炭和有机剂作为吸附剂对沉淀后的上清液进行吸附 沉淀等方法 ,对半导体工业废水中的砷作了有效去除的研究 ,并得到了相关方法的除污效 率 ,在进行最佳化组合以后 ,得到了经济且有效的去除方法和药剂组合。关于半导体含硅废水形成动态膜的影响因素研究介绍
2020/7/15
摘 要: 采用半导体含硅废水为成膜液，以平板微滤膜为基膜形成动态膜，考察了含硅废水浓度、曝气量、过滤速度和基膜对动态膜形成的影响。结果表明: 高浓度含硅废水形成动态膜所需时间短，仅需 50 min。曝气量大则不易形成动态膜，膜孔堵塞严重; 曝气量小易形成动态膜，但动态 膜不牢固，易脱落; 曝气量适当时所形成的动态膜较薄，过滤阻力小，跨膜压力上升缓慢，最佳曝气量为 10 L /min。过滤速度较高时易造成硅颗粒堵塞基膜膜孔，跨膜压力上升较快，最高滤速取 0． 6 m /d。此外，在进水硅颗粒粒径分布一定的条件下，采用 Japan － 0． 1 和 LK － 10 基膜可形成过滤性 能好的动态膜，且动态膜有利于防止基膜膜孔阻塞，对基膜具有很好的保护作用，但 PEIER 基膜形 成动态膜的过滤性能很差，不宜用作回收硅颗粒的动态膜的基膜。关于半导体生产废水处理及回用技术介绍介绍
2020/7/15
摘 要】半导体生产废水主要来 自车间的镀槽、清洗水等，废水中含有的主要污染物有 ：Ag、Cu、Ni、COD、SS、 CN、酸碱等。文章以东莞柏狮赛格精密电子有限公司产生的废水为例，介绍了半导体生产废水处理及回用技术，处 理后出水各项指标均可稳定达到国家和广东省以及排放标准，废水利用率达到了 5O％。
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